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大半導(dǎo)體關(guān)鍵電子化學(xué)品系列報(bào)告之一-光刻膠

光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的 35%，并且耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)芯片工藝的 40%-60%。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料。

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